随着IT升级活动增加，计算机、数码相机、平板电视、DVD录音机以及其他数字产品市场需求旺盛，2004年全球清洗设备的总体市场为12亿美元，预计2005年可达15亿美元。据专家介绍，半导体加工线宽越来越精细，清洗在整个半导体制造过程中也越来越重要。中科院光电研究所研制成功的常压低温等离子体系列清洗设备主要有3种：APPJ常压辉光低温等离子体喷枪设备；目前国外没有的APUP辉光低温等离子体光刻胶清洗设备；目前国外没有的APPT辉光低温等离子体通道表面改性和清洗设备。常压低温等离子体系列清洗设备可用于环氧印刷线路板光刻胶清洗、残余物清洗、孔残余物清洗、芯片粘接表面活化，表面交联、封装、高分子材料及医疗领域。设备需求如果以10%的速度增长，2008年市场需求将超过150亿元人民币。生产的产品按占全球清洗设备市场的1/150计算，预计销售将超过1亿元人民币，年利润将超过3700万元人民币。

　　投资专家认为中国科学院光电研究院的该技术项目效益可观。APPJ常压辉光低温等离子体喷枪设备需要投资150万元，预计市场销售价格为20万元人民币/台，按每年销售100台计算，产值将达到2000万元，获得利润700元。APUP辉光低温等离子体光刻胶清洗设备需要投资600万元，预计市场销售价格为200万元人民币/台，按每年销售20台计算，年产值将达到4000万元，获得利润1500万元。APPT辉光低温等离子体通道表面改性和清洗设备需要投资600万元，预计市场销售价格为200万元人民币/台，按每年销售20台计算，年产值将达到4000万元，获得利润1500万元。